Hochleistungs-Impuls-Magnetronsputtern (HiPIMS)

Das Kombinations-Verfahren von Hochleistungs-Impuls-Magnetronsputtern (HiPIMS) mit Ionen-Implantation (PBII) findet seinen Einsatz, um simultane Beschichtungen und hocheffektive Dotierung von Oberflächen zu erreichen. Die Anwendung der HiPIMS-Technologie in Kombination mit der Ionenimplantation ist für die Veredelung von Oberflächen eine völlig neuartige Methode, Oberflächen für den Einsatz unter extremen thermischen, chemischen und mechanischen Ansprüchen zu modifizieren. Dieses Kombinationsverfahren aus HiPIMS und PBII ermöglicht es uns, einzigartige Oberflächeneigenschaften zu erzeugen. So lassen sich Schichten mit einer enorm geringen Rauheit erzeugen, mit einem zu anderen Plasmaverfahren hohen Kristallitanteil und deren -größe und auch die Beschichtungsrate ist im Vergleich zum reinen HiPIMS verbessert. Dieses Verfahren ermöglicht die Herstellung von Verschleißschutzschichten, antimikrobiellen Oberflächen und diamantartigen Schichten (DLC) und besitzt heute weltweite Einzigartigkeit in Greifswald. Besonders im Bereich der lasttragenden Implantate und der homogenen Beschichtung hochbelasteter Bauteile sind diese Eigenschaften von großem Vorteil.

Mit dieser speziell für das INP Greifswald designte Anlage können komplexe Werkstücke mit einer Größe von bis zu 15 cm Breite x 25 cm Länge komplett von allen Seiten homogen veredelt werden. Ein bisher nicht erforschtes Gebiet, dem wir uns zukünftig widmen wollen, ist die Bearbeitung biokompatibler Oberflächen mit dieser Methode (z.B. von Implantaten).